مادة الموليبدنوم المستهدفة
طلاء الرش المغنطروني هو نوع جديد من طرق الطلاء بالبخار الفيزيائي، بالمقارنة مع طريقة الطلاء بالتبخير، فإن له مزايا واضحة في العديد من الجوانب. كتقنية ناضجة نسبيًا تم تطويرها، تم تطبيق رش المغنيطرون في العديد من المجالات.
الاستخداماتات الرئيسية: تُستخدم المواد المستهدفة بالرش بشكل أساسي في صناعات الإلكترونيات والمعلومات، مثل الدوائر المتكاملة، وتخزين المعلومات، وشاشات الكريستال السائل، وذاكرة الليزر، وأجهزة التحكم الإلكترونية، وما إلى ذلك؛ ويمكن أيضًا استخدامها في مجال طلاء الزجاج؛ كما يمكن استخدامها أيضًا في المواد المقاومة للتآكل، ومقاومة التآكل بدرجة الحرارة العالية، ومنتجات الديكور وغيرها من الصناعات.
المواد المستهدفة التي تستخدم في الرش لها متطلبات أعلى من صناعة المواد التقليدية. لمتطلبات العامة هي كما يلي: الحجم، التسطيح، النقاء، محتوى الشوائب، الكثافة، N/O/C/S، حجم الحبوب والتحكم في العيوب. وتشمل المتطلبات الأعلى أو المتطلبات الخاصة ما يلي: خشونة السطح، وقيمة المقاومة، وانتظام حجم الحبوب، والتكوين، وانتظام الهيكل، ومحتوى وحجم المادة الغريبة (أكسيد)، والنفاذية المغناطيسية، والكثافة العالية جدًا والحبوب فائقة الدقة، وما إلى ذلك. طلاء الرش بالمغنيطرون هو نوع جديد من طريقة الطلاء بالبخار الفيزيائي، والذي يستخدم نظام مدفع إلكتروني لإصدار الإلكترونات وتركيزها على المادة المراد طلاؤها، بحيث تتبع الذرات المتناثرة مبدأ تحويل الزخم وتطير بعيدًا عن المادة إلى الركيزة بطاقة حركية عالية إلى طبقات الإيداع. تسمى هذه المادة المواد الهدف الدوار. وتشمل المواد المستهدفة للترسيب المعادن، والسبائك، ومركبات السيراميك، وما إلى ذلك
طلاء الرش المغنطروني هو نوع جديد من طرق الطلاء بالبخار الفيزيائي، بالمقارنة مع طريقة الطلاء بالتبخير، فإن له مزايا واضحة في العديد من الجوانب. كتقنية ناضجة نسبيًا تم تطويرها، تم تطبيق رش المغنيطرون في العديد من المجالات.
الاستخداماتات الرئيسية: تُستخدم المواد المستهدفة بالرش بشكل أساسي في صناعات الإلكترونيات والمعلومات، مثل الدوائر المتكاملة، وتخزين المعلومات، وشاشات الكريستال السائل، وذاكرة الليزر، وأجهزة التحكم الإلكترونية، وما إلى ذلك؛ ويمكن أيضًا استخدامها في مجال طلاء الزجاج؛ كما يمكن استخدامها أيضًا في المواد المقاومة للتآكل، ومقاومة التآكل بدرجة الحرارة العالية، ومنتجات الديكور وغيرها من الصناعات.
مجموعة واسعة من المواد المستهدفة من الموليبدينوم
تعد مادة الموليبدينوم عالية النقاء ذات العرض الواسع إحدى المواد الخام الرئيسية في إنتاج ألواح AMOLED. منتجات شركتنا عبارة عن مواد مستوية عالية النقاء عالية النقاء من الموليبدينوم مستوية الهدف مناسبة لـ TFT-LCD/AMOLED، والتي تستخدم بشكل أساسي في الجيل G2.5-G6 من TFT-LCD/AMOLED، مما يملأ فجوة مواد الموليبدينوم المستهدفة ذو العرض الواسع مادة (1800 مم) في السوق الصينية.
مادة مسطح الموليبدينوم المستهدفة
النقاوة: 99.95%
الكثافة: ≥ 10.2جم/سم مكعب
نطاق الحجم: يمكن تخصيصه وفقا لاحتياجات العميل
المظهر: عند ملاحظته تحت المجهر، يظهر السطح بريقًا معدنيًا موحدًا، بدون أكسدة/تغير لون الهدرجة، خدش، تشوه، نتوء، إلخ.
الاستخدامات: يتم استخدامه لصنع أجزاء التسخين وأجزاء العزل الحراري لفرن التفريغ، ويمكن استخدامه لصنع أجهزة التسخين، والمبردات، وأواني وأجهزة مختلفة في الصناعة الكيميائية. كما أنها تستخدم على نطاق واسع في صناعة الطيران والمعدات الطبية وغيرها من المجالات. يتم استخدام المواد المستهدفة بالرش للطلاء بالرش المغنيطروني، وهي طريقة جديدة لترسيب البخار الفيزيائي (PVD).
مادة دوار موليبدنوم المستهدفة
مادة الهدف الدوارة هي نوع من المواد المستهدفة الدوارة. يتم تصنيع مادة المادة المستهدفة في أسطوانة، يتم فيها تركيب مغناطيس ثابت، ويتم تدوير الطلاء بسرعة بطيئة.
يمكن توفير المواد المستهدفة لرش الموليبدينوم بالأحجام التالية وفقًا لمتطلبات المستخدم: الطول: ≤ Φ 165 مم Χ 1000 مم، النقاوة: ≥ 99.95%.
الاستخدامات: الخلايا الشمسية، والزجاج المعماري، وزجاج السيارات، وأشباه الموصلات، وأجهزة التلفاز المسطحة، إلخ.
